شرکت تایوانی تولید نیمه‌هادی (TSMC)، با خرید جدیدترین سیستم لیتوگرافی EUV با توان عددی بالا (High NA EUV) از شرکت ASML، گامی بزرگ در جهت تولید تراشه‌های پیشرفته برداشته است. این دستگاه که با نام Twinscan EXE:5000 شناخته می‌شود، با قیمتی حدود 350 میلیون دلار، به TSMC اجازه می‌دهد تا تراشه‌هایی با ابعاد کوچکتر و عملکرد بسیار بالاتر تولید کند.
به گزارش سرویس اخبار فناوری رسانه تکنولوژی تکنا، در فناوری جدید با رزولوشن 8 نانومتری و استفاده از طول موج نور EUV 13.5 نانومتری، این سیستم پیشرفته به تولیدکنندگان تراشه اجازه می‌دهد تا تراشه‌های کوچکتر با تراکم ترانزیستوری تا 2.9 برابر بیشتر تولید کنند. این پیشرفت به معنی افزایش چشمگیر قدرت پردازشی و کاهش مصرف انرژی تراشه‌ها است که در صنایع مختلف از جمله هوش مصنوعی و محاسبات ابری کاربرد گسترده‌ای خواهد داشت. TSMC قصد دارد از این فناوری برای تولید تراشه‌های 1.4 نانومتری (A14) خود استفاده کند و امیدوار است تا سال 2027 به تولید انبوه برسد.
اینتل پیش‌تر به عنوان اولین شرکت، دو دستگاه High NA EUV را در کارخانه خود نصب کرده و سامسونگ نیز به زودی به این جمع خواهد پیوست. با این حال، به دلیل محدودیت‌های تجاری، تنها تعداد محدودی از شرکت‌ها به این فناوری پیشرفته دسترسی دارند.
استفاده از این دستگاه‌های پیشرفته چالش‌های خاص خود را دارد. اندازه بسیار بزرگ این دستگاه‌ها نیازمند ساخت یا ارتقای قابل توجه تأسیسات تولید است. همچنین، معماری تراشه‌ها باید برای سازگاری با این دستگاه‌ها، دوباره طراحی شود. سرمایه‌گذاری TSMC در فناوری High NA EUV نشان‌دهنده تعهد این شرکت به حفظ جایگاه پیشرو خود در صنعت نیمه‌هادی است. با توجه به رشد روزافزون بازار تراشه‌های هوش مصنوعی، این فناوری نقش مهمی در آینده صنعت الکترونیک ایفا خواهد کرد.
source